快科技12月24日音讯，近来，荷兰光刻机巨子ASML公司宣告，优先向Intel公司交给其新式高数值孔径（High NA EUV）的极紫外光刻机。
据悉，每台新机器的本钱逾越3亿美元，可协助计算机芯片制作商出产更小、更快的半导体。
ASML官方社会化媒体账号发布了一张现场相片。图可以正常的看到，光刻机的一部分被放在一个维护箱中。箱身绑着一圈红丝带，正准备从其坐落荷兰埃因霍温的总部发货。
耗时十年的创始性科学和系统工程值得鞠一躬！咱们很快乐也很骄傲能将咱们的第一台高数值孔径的极紫外光刻机交给给Intel。ASML公司说道。
据了解，高数值孔径的极紫外光刻机拼装起来比货车还大，需要被分装在250个独自的板条箱中进行运送，这中心还包含13个大型集装箱。
揭露材料显现，NA数值孔径是光刻机光学系统的重要目标，直接决议了光刻的实践分辨率，以及最高能到达的工艺节点。
一般来说，金属距离缩小到30nm以下之后，也便是对应的工艺节点逾越5nm，低数值孔径光刻机的分辨率就不够了，只可以运用EUV两层曝光或曝光成形(pattern shaping)技能来辅佐。
ASML 9月份曾宣告，将在今年底发货第一台高数值孔径EUV光刻机，类型Twinscan EXE:5000，可制作2nm工艺甚至更先进的芯片。
